2007年02月10日
マテリアル インテグレーション 2006年12月号
定価3,150円(税込・送料別) 別途送料200円
特集 先端セラミックスプロセス技術(1)
先端セラミックプロセス技術の概要
株式会社アプライド・マイクロシステム 代表取締役 加藤 好志
ナノ粒子技術の開発とその応用
株式会社ホソカワ粉体技術研究所 研究開発本部 本部長 福井 武久
熱プラズマを利用したセラミックス微粒子\\の球状化技術
(株)日清製粉グループ本社 技術本部 生産技術研究所 湯蓋 一博 他
エアロゾルデポジション法によるセラミック厚膜形成技術について
東陶機器(株) 総合研究所 基礎研究部長 清原 正勝
テンプレート粒成長法による圧電セラミックスの結晶配向プロセス
慶應義塾大学大学院理工学研究科 総合デザイン工学専攻 教授 木村 敏夫
マイクロ波プロセスの基礎,応用と世の中の動向
(株)豊田中央研究所 主任研究員 福島 英沖
マイクロ波焼結によるチタン酸バリウムの高性能化
株式会社富士セラミックス 開発部 課長 高橋 弘文 他
新しい焼結技術--放電プラズマ焼結 (SPS) 法
SPSシンテックス株式会社 専務取締役 開発センター所長 鴇田 正雄
次世代シート成形技術の動向―スロットダイ及びマイクログラビア工法
株式会社康井精機 営業技術部 中里 匡志
化学溶液法を用いたジルコン酸チタン酸鉛厚膜\\の作製とその圧電特性評価
(独)産業技術総合研究所 水素材料先端科学研究センター 飯島 高志
インクジェット法によるチタン酸バリウム厚膜の作製
富山県工業技術センター 機械電子研究所 電子技術課 研究員 坂井 雄一 他
連載近代日本のセラミックス産業と科学・技術の発展に尽力した偉人,怪人,異能,努力の人々(30)近代日本の陶芸の発展に尽力した人々(1)\\板谷波山,小森忍,河井寛次郎,濱田庄司,島岡達三(敬称略)などの傑出した方々と,東京工業学校,東京高等工業学校,東京工業大学,大阪高等工業学校,京都市立陶磁器試験場などの関係者の方々
宗宮 重行
3,150円(税込・送料別)
◆ご購入はメールかこちらのオーダーフォームかTEL、FAXにてご注文ください◆
株式会社CSセンター 書籍販売部
E-mail:csw@cscenter.co.jp
TEL:075-241-9620
FAX:075-241-9692
〔株式会社CSセンターHome〕
特集 先端セラミックスプロセス技術(1)
先端セラミックプロセス技術の概要
株式会社アプライド・マイクロシステム 代表取締役 加藤 好志
ナノ粒子技術の開発とその応用
株式会社ホソカワ粉体技術研究所 研究開発本部 本部長 福井 武久
熱プラズマを利用したセラミックス微粒子\\の球状化技術
(株)日清製粉グループ本社 技術本部 生産技術研究所 湯蓋 一博 他
エアロゾルデポジション法によるセラミック厚膜形成技術について
東陶機器(株) 総合研究所 基礎研究部長 清原 正勝
テンプレート粒成長法による圧電セラミックスの結晶配向プロセス
慶應義塾大学大学院理工学研究科 総合デザイン工学専攻 教授 木村 敏夫
マイクロ波プロセスの基礎,応用と世の中の動向
(株)豊田中央研究所 主任研究員 福島 英沖
マイクロ波焼結によるチタン酸バリウムの高性能化
株式会社富士セラミックス 開発部 課長 高橋 弘文 他
新しい焼結技術--放電プラズマ焼結 (SPS) 法
SPSシンテックス株式会社 専務取締役 開発センター所長 鴇田 正雄
次世代シート成形技術の動向―スロットダイ及びマイクログラビア工法
株式会社康井精機 営業技術部 中里 匡志
化学溶液法を用いたジルコン酸チタン酸鉛厚膜\\の作製とその圧電特性評価
(独)産業技術総合研究所 水素材料先端科学研究センター 飯島 高志
インクジェット法によるチタン酸バリウム厚膜の作製
富山県工業技術センター 機械電子研究所 電子技術課 研究員 坂井 雄一 他
連載近代日本のセラミックス産業と科学・技術の発展に尽力した偉人,怪人,異能,努力の人々(30)近代日本の陶芸の発展に尽力した人々(1)\\板谷波山,小森忍,河井寛次郎,濱田庄司,島岡達三(敬称略)などの傑出した方々と,東京工業学校,東京高等工業学校,東京工業大学,大阪高等工業学校,京都市立陶磁器試験場などの関係者の方々
宗宮 重行
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Posted by 株式会社CSセンター at 01:28
│ELECTRONIC CERAMICS