月刊　マテリアル　インテグレーション

特集　エレクトロニクセラミックス薄膜

巻頭言
特集によせて
TDK株式会社　基礎材料開発センター　坂本　典正
薄膜は昔から色々な先生方・産業界の方々が研究され，半導体を中心に応用製品が広がり今日に至っています．最近では白色発光ダイオードを中心とした照明分野にも応用が広がっており，またコンデンサでも厚膜を中心とした積層チップコンデンサの先は薄膜による積層ではないかと言われています．それに従い薄膜の工法もスパッタ－による気相法から始まり，液相による薄膜の形成も活発に研究されていますし，またMOCVD法でセラミックスの薄膜を規則正しく配列して作成する事も一般的になってきました．
今回はセラミックス・金属等の強誘電体・磁性体・光ディスクの3分野での薄膜に焦点を当て，それぞれに異なる製法・特徴を持った薄膜について基礎的な研究段階から応用製品にいたるまで幅広く確認できる様に第一線で活躍されている方々に現在の研究成果を執筆して頂きました．
薄膜の作成を一度も経験していない私がこの様な特集を組むのも大変おこがましい事ではありますが，一ノ瀬先生をはじめとしたエレクトロニックセラミックスの編集委員の方々の絶大なる協力の下に編集する事ができた事は望外の幸せです．
更にはこの特集の中から将来の指針の参考になれば幸甚です．

c軸配向ビスマス層状化合物膜の誘電特
東京工業大学物質科学創造専攻　兼　PRESTO, JST　舟窪　浩　他

強誘電性・強磁性マルチフェロイック物質の現状と展望
東京工業大学　大学院理工学研究科　材料工学専攻　脇谷　尚樹　他

強誘電体ゲートトランジスタ用薄膜
大阪府立大学大学院　工学研究科　藤村　紀文

化学溶液法によるBi層状ペロブスカイト化合物薄膜の作製と評価
名古屋大学・エコトピア科学研究所　ナノマテリアル科学研究部門　助教授　坂本　渉

室温でのペロブスカイトナノシートからのKNbO3ナノ粒子および薄膜の作成
新潟大学大学院　自然科学研究科　戸田　健司　他

磁気記録ヘッド用高Bs-CoFeめっき膜の開発
早稲田大学理工学術院　杉山　敦史　他

Magnetoresistance of Co(Pt)-ITO nanocomposite films
Department of Metallurgy and Ceramics Science, Tokyo Institute of Technology　Ji Shi

電磁ノイズ対策用フェライトめっき膜
NECトーキン株式会社　研究開発本部　副本部長兼材料開発センター長（工学博士）　吉田　栄吉　他

記録可能光ディスクとその反射率-CD-RからBlu-ray Disc および将来-
TDK(株)テクノロジーグループSQ研究所　青井　利樹

強誘電体のLSI応用-FRAM-
株式会社富士通研究所　シリコンテクノロジ開発研究所　丸山　研二

連載第二次世界大戦後の日本のセラミックス科学の発達に，友好や親善に尽力した世界の大学教授や科学者（25）C/C Composites，SiC Compositesなど各種の複合材料の開発，発展に尽力した Erich Fitzer ドイツ Karlsruhe 工科大学教授
宗宮重行

定価3,150円（税込・送料別）　別途送料200円

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